5.苏大维格涉嫌隐匿激光光刻等核心技术来源
曾因涉嫌关联交易首次上会被否的苏州苏大维格光电科技股份有限公司(以下简称“苏大维格”)二次闯关成功，但其关联交易问题仍备受关注。而记者调查发现，苏大维格主要核心技术来源存疑，其招股书表述的“自主研发”与事实不符。业内人士指出，此举涉嫌隐匿主要核心技术来源，违反了信息披露“真实、准确、完整”的基本原则，涉嫌虚假陈述，公司存在核心技术归属及专利争端的风险，应引起监管部门和投资者的注意。
苏大维格成立于2001年10月25日，主要从事微纳光学产品的设计、开发与制造以及关键制造设备的研制和相关技术研发服务。该公司招股书称，公司是江苏省首批重新认定的高新技术企业，董事长陈林森是微纳光学制造领域的领军人物，是公司拥有的29项专利的发明人。
苏大维格招股书在“第六节业务和技术”之“七、公司核心技术及研发情况”叙述主要核心技术及来源时称，经过多年努力，公司已成为国内微纳光学制造领域技术领先企业，在整个生产工艺过程均具有自主知识产权，并在激光干涉光刻设备与关键技术、微纳米压印设备与技术等方面具有国际领先水平。在微纳光学制造领域内，公司的研发条件、人才储备情况和创新能力等方面都处于国内领先。公司的主要核心技术包括数码三维与光变图像的制作方法及激光照排系统、宽幅智能激光SL M 光刻系统与应用、卷对卷纳米压印关键技术与应用、亚波长光学制造技术与应用、D MD技术与双通道光变色膜等5项技术，其中亚波长光学制造技术与应用和D M D技术与双通道光变色膜2项技术是分别与苏州大学、公安部交通管理科学研究所合作研发的，其余3项技术为自主研发。
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