日本Gigaphoton正建造准分子激光器工厂,未来产能翻一番

OFweek激光网 中字

为半导体光刻应用提供准分子激光器的日本公司Gigaphoton表示,到2023年,该公司将把这种光源的生产能力提高一倍。

这一决定是对半导体供应链压力的回应,Gigaphoton计划在2022年4月之前完成新工厂的建设。

尽管最新的极紫外(EUV)光刻工具中没有使用准分子激光,但EUV仅用于半导体晶圆和芯片生产的有限数量的加工步骤——来自准分子源的深紫外(DUV)光,仍然是大部分模板制作步骤的主要工具。

Gigaphoton表示,随着半导体制造商加快对关键设备的投资来应对全球设备短缺,准分子激光器的需求正在增加。该公司预计,在可预见的未来,准分子激光器的高需求水平将保持强劲。

该公司宣布:“为了满足需求的增长,Gigaphoton正在建设一个新工厂,将于2022年4月开放,以建立一个更稳定的供应系统。”“通过这项计划,到2023年,Gigaphoton的产能将翻一番,同时最大限度地利用生产设备,精简和优化生产流程。”

公司总裁兼首席执行官Katsumi Uranaka补充道:“随着全球对半导体的需求不断上升,我们将尽最大努力满足客户的需求。“本财政年度,我们将充分利用现有资源进行生产,并提高生产计划的效率和交货期。明年,新设施将建成,我们将拥有一个更稳定的供应体系。”

去年,Gigaphoton推出了其最新的“G60K”KrF准分子源,这是一种工作在248 nm的激光器,输出高达60 W,单个脉冲高达15 mJ,以支持更高吞吐量的光刻设备。

该公司还开始量产用于浸没式光刻的“GT66A”ArF准分子激光器。它用于ASML的“NXT:2050i”光刻工具,具有升级的光学模块,可改善半导体晶圆上的光束均匀性,降低用于生产最先进设备的表面粗糙度。由于采用了耐用性更好的新组件,光学模块的维护周期也延长了30%。


声明: 本网站所刊载信息,不代表OFweek观点。刊用本站稿件,务经书面授权。未经授权禁止转载、摘编、复制、翻译及建立镜像,违者将依法追究法律责任。
侵权投诉

下载OFweek,一手掌握高科技全行业资讯

还不是OFweek会员,马上注册
打开app,查看更多精彩资讯 >