为半导体光刻应用提供准分子激光器的日本公司Gigaphoton表示，到2023年，该公司将把这种光源的生产能力提高一倍。
这一决定是对半导体供应链压力的回应，Gigaphoton计划在2022年4月之前完成新工厂的建设。
尽管最新的极紫外(EUV)光刻工具中没有使用准分子激光，但EUV仅用于半导体晶圆和芯片生产的有限数量的加工步骤——来自准分子源的深紫外(DUV)光，仍然是大部分模板制作步骤的主要工具。
Gigaphoton表示，随着半导体制造商加快对关键设备的投资来应对全球设备短缺，准分子激光器的需求正在增加。该公司预计，在可预见的未来，准分子激光器的高需求水平将保持强劲。
该公司宣布:“为了满足需求的增长，Gigaphoton正在建设一个新工厂，将于2022年4月开放，以建立一个更稳定的供应系统。”“通过这项计划，到2023年，Gigaphoton的产能将翻一番，同时最大限度地利用生产设备，精简和优化生产流程。”
公司总裁兼首席执行官Katsumi Uranaka补充道:“随着全球对半导体的需求不断上升，我们将尽最大努力满足客户的需求。“本财政年度，我们将充分利用现有资源进行生产，并提高生产计划的效率和交货期。明年，新设施将建成，我们将拥有一个更稳定的供应体系。”
去年，Gigaphoton推出了其最新的“G60K”KrF准分子源，这是一种工作在248 nm的激光器，输出高达60 W，单个脉冲高达15 mJ，以支持更高吞吐量的光刻设备。
该公司还开始量产用于浸没式光刻的“GT66A”ArF准分子激光器。它用于ASML的“NXT：2050i”光刻工具，具有升级的光学模块，可改善半导体晶圆上的光束均匀性，降低用于生产最先进设备的表面粗糙度。由于采用了耐用性更好的新组件，光学模块的维护周期也延长了30%。
