全球高功率二极管激光器和微光学供应商Focuslight Technologies宣布，将推出DLightS系列的二极管激光器系统，用于晶片激光退火。
该系统结合了用于光子生成和光束转换的共晶键合技术、热管理和热应力控制技术以及用于光子控制的光束均匀化技术。
（图源：Focuslight Technologies）
据介绍，DLightS可产生70 μm的极窄线激光束，纵横比为160：1。该激光系统提供高达1800W/mm2的连续能量输出，可实现高光束均匀性和高输出功率稳定的效果。同时，它还具有加工温度监测和输出光束质量的现场检测等附加功能。
激光退火是28nm及以下技术节点逻辑芯片制造中不可缺少的关键工艺之一。
该工艺在不到1毫秒的时间内将晶片表面原子层加热到1000℃以上，然后快速冷却，有效减少工艺过程中晶片电极缺陷，提高产品性能和生产收率。
随着半导体制造技术的发展和超大规模集成电路(VLSI)设计制造能力的提高，激光ⅰ退火技术逐渐取代传统的炉退火技术，成为半导体制造领域的主流技术。
与传统退火技术相比，激光退火具有选择性加热、温度闭环控制、功率密度高、能量输出稳定等优点，这种工艺适用于均匀退火、峰退火、闪速退火等各种退火工艺。
