据维科网·激光获悉，德国通快集团在不久前完成了第200台EUV光刻机光源的发货。
图片来源：通快
EUV光刻机需求旺盛：通快、ASML业绩均增长
通快集团披露的财务数据显示，2021财年（2020年7月1日－2021年6月30日），通快在EUV业务领域实现了5.3亿欧元的销售额，占总销售额的13.5％。通快预计，在2022财年EUV业务销售额将大幅增加到6亿欧元。目前，通快EUV业务领域已提供超过1500个工作岗位。
而全球唯一的EUV光刻机供应商不久前也披露了最新的财报。2021年ASML全年净销售额达186．11亿欧元，同比增长33.1％；净利润为58.83亿欧元，同比增长65.5％。其中，EUV光刻系统便贡献了63亿欧元的收入，较2020年增加了18亿欧元（增长40％）。
历年ASML EUV光刻机出货量
维科网·激光 制图
近年来，ASML销售的EUV光刻系统数量持续增长。从2015年第一台EUV光刻机出货，到2021年，ASML已成功交付42套EUV光刻系统。ASML表示，随着芯片制造工艺愈加先进，预计未来逻辑芯片、DRAM都将采用EUV技术制造，未来EUV光刻机的需求仍持续增长。在现有条件下，预计2022年将产出55台EUV光刻系统，EUV系统的收入也将增长25％。
三强联手 攻克EUV光刻最大挑战
EUV光刻是光刻机发展的第五代技术，也是目前最先进的技术。前四代光刻机使用都属于深紫外光（准分子激光器产生UV激光束），但在摩尔定律的推动下，半导体产业对于芯片的需求已经发展到5nm，甚至是3nm，浸入式光刻面临更为严峻的镜头孔径和材料挑战。可将最小工艺节点推进至5nm、3nm的第五代 EUV光刻机成了半导体行业不可或缺的重磅武器。
EUV光刻最大的挑战之一是如何产生波长极短的13.5nm的光，这需要将等离子体加热到接近22万摄氏度（几乎是太阳平均表面温度的40倍）。为实现这一点，荷兰ASML（光刻系统制造商）、德国Zeiss（镜头制造商）和德国Trumpf（光源制造商）紧密合作，通过多年努力最终研制出每秒可加工100多个晶圆的独一无二的CO2激光系统，攻克了这一难题。
