6月28日及6月30日，接国家知识产权局通知，珑璟光电申报的其中4项发明专利获得授权。加上此前授权的专利数量，珑璟光电在光学领域已获得超百件授权专利。
专利是对公司技术工艺创新成果的固化和保护，同时也是公司技术实力和创新能力不断提升的体现。此次珑璟获得授权发明专利中，1件是关于二维衍射光栅及其形成方法的专利，可以在光波导上刻蚀形成，从而输出具有均匀亮度的光束，可解决“条带化”效应和显示效果不佳的问题；其他3件发明专利提出了3种阵列波导结构方案，能够保证用户眼动范围的情况下，减少光机尺寸。
珑璟光电在衍射方面的专利突破了海外的技术封锁及IP限制，这是公司在衍射光波导的深耕成果和长远布局的成效显现；同时，珑璟光电在阵列光波导上，知识产权的不断突破，也不断地成就公司在行业中的优势地位，推动行业的不断创新。
近年来，珑璟光电高度重视技术创新，强调“一次做完”、“不断探索”的精进文化，始终专注于近眼显示系统光学模组的技术创新、研发设计及生产工艺开发，将知识产权体系建设和知识产权保护纳入公司的战略发展规划，建立起了支撑公司短期和中长期发展的知识产权体系，为公司的发展提供坚实的IP资产支撑，建立核心技术壁垒。今后，公司将继续加大技术创新投入力度，鼓励员工积极开展技术创新和专利申报，为早日实现珑璟的“全面突破”增强前进动力。
