跟随美国,错失中国市场,日本芯片产业或将面临灭顶之灾

柏铭007
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在诸多纠葛之后,日本最终决定跟随美国,停止对中国供应23种芯片设备,此举对中国芯片产业固然会带来一定打击,但是对于日本芯片产业的打击将更大,甚至可以说对日本芯片产业来说是灭顶之灾。

一、日本芯片产业并不强

在1990年代,日本芯片曾占全球芯片市场五成份额,当时日本曾大言不惭地对美国说,没有日本的半导体,美国连收音机都生产不出来,然而随后在美国的强势打压下,日本芯片产业迅速衰落,到如今日本芯片占全球芯片市场的份额仅剩下10%左右。

日本芯片产业衰落后,日本芯片设备却依靠深厚的技术积累在全球芯片设备市场占有优势地位,以光刻机来说,尼康和佳能直到2005年之前都占全球光刻机市场近八成的市场份额,如今的光刻机龙头ASML当时却在为生存而挣扎。

美国压制了日本芯片产业之后,并未放过日本的芯片设备,2005年之后,美国开始将打压日本芯片设备产业列上日程,其中在光刻机行业的打压尤为直接。美国要求尼康和佳能共享光刻机技术,随后ASML迅速崛起,再之后美国建立EUV光刻机技术联盟,却将日本的尼康和佳能排除在外。

EUV光刻机对于7纳米及更先进工艺非常关键,被排除在外的尼康和佳能终于由此衰落,至如今ASML独占EUV光刻机市场,在整体光刻机市场占有的份额已达到六成以上,尼康和佳能仅占剩下四成的市场份额。

至此,日本的芯片和芯片设备都已不占优势,仅能在有限的市场挣扎求生,与当年的意气风发可谓天地之别,而中国市场则是日本芯片设备的重要市场,甚至可以说是希望,然而如今日本选择跟随美国无疑是放弃了最后的希望。

二、错失中国市场将是日本芯片产业的灭顶之灾

日本本来有意振兴芯片设备产业,近几年尼康就表示将大举扩张光刻机产能,目标市场就是中国市场,而中国市场在去年也给予日本光刻机回馈,一家中国芯片企业招标27台光刻机,其中21台光刻机都给了日本光刻机,6台给了中国本土的光刻机企业。

日本研发的无需EUV光刻机的NIL工艺也获得中国芯片的青睐,据称日本的NIL工艺可以最高实现5纳米工艺,7纳米工艺预计能满足中国芯片九成需求,达到5纳米工艺那无疑让中国芯片大喜过望,如此情况下中国芯片行业本来有意付出重金支持日本芯片产业。

然而如今日本决定跟随美国的脚步,停止对中国供应芯片设备,这对日本芯片产业将是重大的损失,日本芯片产业将再也没有复兴的希望,事实上日本的芯片产业并没有它自己所预估的那么不可替代。

数年前,日本对韩国停止供应先进的光刻胶,韩国就迅速聚集力量花了一年时间研发光刻胶,这本来足以警醒日本,毕竟全球芯片设备市场主要就是美国、韩国、中国台湾和中国大陆,美国本身有较强的芯片设备企业无需日本芯片设备,失去韩国市场之后,日本的芯片设备仅剩下中国台湾和中国大陆两大市场,然而日本却不思悔改,如今再失去中国大陆市场,日本芯片设备可以说越走越窄了。

日本芯片设备行业仅剩下的中国台湾市场也并不可靠,中国台湾的芯片制造企业由于诸多原因的影响往往优先选择美国和欧洲的芯片设备,再加上日本的芯片设备没有技术优势,中国台湾的芯片制造企业对日本芯片设备需求更不强烈,如此可以说失去中国大陆市场之后,日本芯片设备除了覆灭已无路可走。

对于中国芯片行业来说,日本停止供应芯片设备影响不会太大,中国现有的芯片生产线使用寿命可以长达20年,而ASML也并未全数停止供应光刻机,ASML表示1980i及以上的光刻机都可以继续供应,1980i为38纳米光刻机,通过多重曝光可以生产14纳米工艺,显然ASML对中国市场仍然留有后路,缺乏技术优势的日本芯片设备行业如此决绝更是显得愚蠢无比。

如今中国的28纳米光刻机已进入验证阶段,28纳米光刻机属于浸润式光刻机,浸润式技术可以眼神至7纳米,光刻胶和刻蚀机都已达到5纳米,假以时日中国芯片产业在先进工艺方面将实现纯国产化。

       原文标题 : 跟随美国,错失中国市场,日本芯片产业或将面临灭顶之灾

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