近日，苏州光舵微纳科技股份有限公司（简称：光舵微纳）完成由国投创合投资的近亿元B＋轮股权融资。2022年，公司曾完成数千万B轮融资。
B＋轮融资完成后，光舵微纳将继续提升其核心研发团队的技术实力，积极研发应用于多个重要场景的高端纳米压印设备并进行广泛的市场开拓，进行产线扩充，推进纳米压印技术在更多应用领域的导入。
光舵微纳成立于2011年，致力于推动纳米压印设备和技术的研发及产业化应用。公司是国内纳米压印及技术产业化的领先企业，经过多年的研发及市场应用推广，制造出了多款研发型纳米压印设备及全自动量产型纳米压印设备，实现了设备、耗材及工艺的全方位突破。
纳米压印（Nano Imprint Lithography，NIL）技术发明于上世纪90年代中期。该技术利用机械模具微复型原理在基板上制备微纳结构，克服了光刻技术中由于衍射导致的分辨率限制，具备超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的优势。该技术被列为下一代半导体加工技术的重要代表之一，可应用于LED照明、平板显示、生物技术、太阳能电池、光学等多个领域。
光舵微纳全自动量产型纳米压印设备
自2016年8月，光舵微纳推出国内首台全自动量产型纳米压印设备以来，公司持续投入研发。市场方面，在LED－PSS行业拥有接近100％的市场占有率。在光学器件与AR等领域，在设备及材料方面取得突破，已推出研发型及量产型纳米压印设备，并实现对多家AR头部厂商和光学器件厂商出货。
