近日，德国光学组件和传感器系统供应商Jenoptik斥资千万欧元，投资了一种新的电子束（E－Beam）光刻系统。据悉，新的电子束系统将由总部位于德国耶拿的电子束技术专家Vistec Electron Beam GmbH公司研制，将于2022年中期在德国德累斯顿工厂投入使用。该系统是开发和生产下一代超精密传感器的核心部件，这对进一步开发DUV和在半导体生产过程中建立高精度EUV晶片曝光至关重要。
Jenoptik表示，新的电子束光刻系统能在300mm大小的基底上实现精度约10纳米的光刻（约为毛发直径的1／ 2000）。Jenoptik把这项技术作为超精密微光学制造的主要使能器，这是其传感器业务的功能核心。改进后的电子束光刻系统通过精度和灵活性的提高，为未来半导体曝光技术所需的传感器奠定了技术基础。
2020年9月，Jenoptik收购了光学计量公司Trioptics 75％的股份，以期能进一步加强公司在光学和光电子领域的竞争力（尤其是测试和测量技术方面）。收购Trioptics后，Jenoptik预计全年收入将在7.55亿到7.75亿欧元之间。Jenoptik在光学、传感器技术和精密机械领域拥有超过150年的专业经验，是全球领先的高质量光学和微光学系统开发和生产合作伙伴之一，并致力于开发和引进先进的半导体光刻技术。
电子束曝光结构图
来自百度百科，作者tfihs2771
电子枪：高分辨率的热场发射，配有高压，电子束的能量通常在10～100KeV。
电子枪准直系统：对电子枪发出的电子束进行较直。
电磁透镜：与光学透镜类似，聚焦电子束。
消像散器：调节聚焦像散，减少误差。
光阑：改变电子束流。