近日，德国光学组件和传感器系统供应商——业纳（Jenoptik）宣布，正在为在建中的德累斯顿高科技工厂投资配备一套最先进的电子束光刻系统系统，投资金额高达数百万欧元。
据悉，新的电子束光刻系统（E-Beam）来自于德国耶拿的电子束技术专家Vistec Electron Beam GmbH，将用于为半导体和光通信领域的客户制造高精度微光学元件，预计将于2025年初交付。
以最大的精度，创建最小的结构
Jenoptik表示，新的电子束光刻系统能在300mm大小的基底上实现精度约10纳米的光刻（约为毛发直径的1/ 2000）。改进后的电子束光刻系统精度和灵活性得以提高，为未来半导体曝光技术所需的传感器奠定了技术基础。
该系统是开发和生产下一代超精密传感器的核心部件，改进后的电子束光刻系统精度和灵活性得以提高，对进一步开发DUV和在半导体生产过程中建立高精度EUV晶片曝光至关重要。
据Vistec官网介绍，可变形状光束技术可以在具有不同形状、大小电子束的基板上直接写入：利用高速电子光学进行形状和尺寸的变化，根据之前的压裂布局数据，这些产生的单电子束射入目标层。镜头尺寸可以在1纳米或更小的范围内变化，从最小的点或长窄矩形到边缘长度达2微米的方形区域。这种镜头大小的可变性是有效曝光的先决条件，特别是在大面积曝光时。
Vistec SB3050-2电子束光刻系统基于所谓的“变形光束”（Variable Shaped Beam）原理，即使是大面积的区域也可以非常精确和有效地构建。这款系统具有高度自动化的特点，结合可用基板方面的灵活性，能够轻松灵活地应用在工业环境中。该系统配备了网络单位投影（Cell Projection）功能，提高了重复或曲线结构的产生量和模式保真度，为未来半导体曝光技术所需的传感器奠定了技术基础。
据悉，此前Jenoptik就曾斥资千万欧元，用于投资这种新的电子束（E-Beam）光刻系统。
基于变形光束（VSB）原理的这种电子束光刻系统，目前主要用于工业和前沿研究应用——例如半导体制造中的电子束直写，包括化合物半导体直写、掩模刻写、光子学和AR/VR等几个新兴市场。Vistec的技术可实现自动化处理、高灵活性、书写准确性和强大生产力，因此适用于原型和小批量生产。
高标准的微型光学制造工厂
业纳自2007年以来一直活跃在德国德累斯顿。早在2022年9月，公司在德累斯顿的新微型光学制造工厂就已正式破土动工，用于生产微型光学元件和传感器，主要面向半导体光刻系统。该工厂投资超过7000万欧元，占地1.1万平方米，拥有2000平方米的洁净空间，并于2025年初开始正式投运生产。
如今，随着位于德累斯顿机场园区（Airportpark Dresden）的新高科技晶圆厂的建成，该公司正在巩固其目前分散在几个小型外部工厂的生产，同时扩大其产能。新晶圆厂的洁净室生产将占地2000平方米，洁净室面积达到ISO 5级和3级，满足振动自由度和温度稳定性的最高要求。
整个工厂都考虑到了高环境标准：业纳正在努力通过“KfW 40标准”和“LEED金标准认证”来满足目前最全面和最严格的可持续性建筑标准。同时，将创造高端人才岗位，现场员工人数将增加到120多人。因此，这里将成为微光学领域的主要所在地。
Jenoptik在光学、传感器技术和精密机械领域拥有超过150年的专业经验，是全球领先的高质量光学和微光学系统开发和生产合作伙伴之一，并致力于开发和引进先进的半导体光刻技术。
此前，业纳宣布于2022年底与一家全球技术集团达成了一项框架协议，总金额在百万欧元以上，期限为三年。该合同恰恰指向了用于半导体生产设施的复杂微光学元件的制造。
除了德累斯顿之外，Jenoptik还在位于瑞士海尔布鲁格的耶拿（Jena）和特里普蒂斯（Triptis）工厂，以及位于美国Jupiter（佛罗里达州）和Huntsville（阿拉巴马州）的工厂生产微型光学器件。
关于业纳（Jenoptik）
业纳（Jenoptik）是一家活跃在全球的光子学集团，分为高级光子解决方案和智能移动解决方案两个部门。其主要市场包括半导体设备行业、医疗技术、汽车和机械工程以及交通。该公司综合了光学、激光技术、数字图像处理、光电子和软件方面的专业知识，在全球拥有4400多名员工。公司已在法兰克福德国证券交易所上市，并在MDax和TecDax上交易。
关于Vistec Electron Beam GmbH
Vistec Electron Beam GmbH位于德国耶拿，为先进的电子束光刻技术提供领先的技术解决方案。除了在德国的生产基地外，公司还在亚太地区、美国和欧洲设有服务和支持中心。
